◆ ?7 寸彩色觸摸屏中英文互動(dòng)操作界面，自動(dòng)控制監(jiān)測(cè)工藝參數(shù)狀態(tài)，20 個(gè)配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)追溯。
◆ ?PLC 工控機(jī)控制整個(gè)清洗過(guò)程，手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式。
◆ ?真空艙體、全真空管路系統(tǒng)采用?316 不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無(wú)污染。
◆ ?采用防腐數(shù)字流量計(jì)，??實(shí)現(xiàn)對(duì)氣體輸入精準(zhǔn)控制。標(biāo)配雙路氣體輸送系統(tǒng)，?可選多氣路氣體輸送系統(tǒng)，?可輸入氧氣、氬氣、?氮?dú)狻⑺姆肌錃饣蚧旌蠚獾葰怏w。
◆ ?采用花灑式多孔進(jìn)氣方式，改變單孔進(jìn)氣不均勻問題。
◆ ?HEPA 高效過(guò)濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。
◆ ?符合人體功能學(xué)的?60 度傾角操作界面設(shè)計(jì)，操作方便，界面友好。
◆ ?采用頂置真空艙，上開蓋設(shè)計(jì)，下壓式鉸鏈開關(guān)方式。
◆ ?上置式?360 度水平取放樣品設(shè)計(jì)，符合人體功能學(xué)，操作更方便。
◆ ?有效處理面積大，可處理最大直徑?154mm 晶元硅片。
◆ ?安全保護(hù)，艙門打開，自動(dòng)關(guān)閉電源，機(jī)器運(yùn)行、停止提示。
RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)主要用于微電子芯片、太陽(yáng)能電池、生物芯片、顯示器、光學(xué)、通訊等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。
| 型號(hào) | RIE200 | RIE200plus |
| 艙體內(nèi)尺寸 | H38xΦ260mm | H38xΦ260mm |
| 艙體容積 | 2L | 2L |
| 射頻電源 | 40KHz | 13.56MHz |
| 電極 | 不銹鋼氣浴?RIE?電極，??Φ200mm | 不銹鋼氣浴?RIE?電極，??Φ200mm |
| 匹配器 | 自動(dòng)匹配 | 自動(dòng)匹配 |
| 刻蝕方式 | RIE | RIE |
| 射頻功率 | 0-600W 可調(diào)（可選 0-1000W） | 0-300W 可調(diào)（可選 0-600W） |
| 氣體控制 | 質(zhì)量流量計(jì)（MFC）（標(biāo)配雙路，可選多路）流量范圍?0-500SCCM（可調(diào)） | |
| 工藝氣體 | Ar、N ?、O ?、H ?、CF4、CF4+?H2、CHF3 或其他混合氣體等（可選） | |
| 最大處理尺寸 | Φ154mm | |
| 產(chǎn)品尺寸 | L520xW600xH420mm | |
| 包裝尺寸 | L700xW580xH490mm | |
| 時(shí)間設(shè)定 | 9999 秒 | |
| 真空泵 | 抽速約?8m3/h | |
| 氣體穩(wěn)定時(shí)間 | 1?分鐘 | |
| 極限真空 | ≤1Pa | |
| 電源 | AC220V 50-60Hz，802（1202）502（802）W?所有配線符合《低壓配電設(shè)計(jì)規(guī)范
GB50054-95》、《低壓配電裝置及線路設(shè)計(jì)規(guī)范》等國(guó)標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)相關(guān)規(guī)定。 |
|
| 整機(jī)重量 | 38kg | |
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